[24p-D114-1~11] 8.3 Plasma nanotechnology

[24p-D114-2] Surface modification of C₃N₄ by solution plasma and durability improvement of photocatalytic CO₂ reduction in hybrid with RuRu supramolecular photocatalyst

〇Noritaka Sakakibara¹, Mitsuhiko Shizuno¹, Tomoki Kanazawa², Kosaku Kato³, Akira Yamakata³, Shunsuke Nozawa², Tsuyohito Ito⁴, Kazuo Terashima⁴, Kazuhiko Maeda¹, Osamu Ishitani¹ (1.Tokyo Tech., 2.KEK, 3.TTI, 4.The Univ. of Tokyo)

Keywords:plasma, carbon nitride, photocatalyst

半導体と超分子光触媒からなる複合型光触媒では界面設計が活性に大きな影響を及ぼす。本研究では、プラズマ表面改質により有機半導体であるC₃N₄上へ酸素官能基に富んだカーボン層を均一に堆積させ、C₃N₄と超分子光触媒の親和性向上を狙った。その結果、C₃N₄とルテニウム超分子光触媒を複合化させた可視光照射CO₂還元反応において、ギ酸生成の耐久性が約3倍向上した。