[24p-E203-1~16] 23.1 合同セッションN「インフォマティクス応用」

△ [24p-E203-16] 自律合成システムを活用したCr₂₈Si₇₂薄膜の抵抗温度係数制御

〇木村 武史¹、増田 彩花²、原 浩之²、秋池 良²、召田 雅実²、清水 亮太¹、一杉 太郎¹ (1.東工大物質理工、2.東ソー(株))

キーワード：ベイズ最適化、自律