[25p-D215-1~13] 3.5 Laser system and materials

[25p-D215-11] Proposal for high-durability coating on fluoride fiber devices by atomic layer deposition

〇Hiyori Uehara¹, Yasutaka Matsuo², Kenji Goya³, Yoshiaki Nishijima⁴, Ryo Yasuhara¹, Masanao Murakami⁵, Daisuke Konishi⁵ (1.NIFS, 2.Hokkaido Univ., 3.Akita Pref. Univ., 4.Yokohama Natl. Univ., 5.Mitsuboshi Diamond Ind. Co., Ltd.)

Keywords:fluoride glass fiber, atomic layer deposition, mid-infrared fiber lasers

フッ化物ガラス光ファイバーを利用した赤外ファイバーレーザー及び赤外光ファイバーセンサーの耐候性向上のため、ジルコニウム系フッ化物（ZBLAN）ガラス光ファイバーへの酸化物ナノ薄膜形成を試みた。
本講演では、複雑形状へのナノ緻密膜形成が可能な「原子層堆積法」に着目し、新たなフッ化物ファイバーデバイスの保護手法を提案する。