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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[25p-E203-1~17] 15.4 III-V族窒化物結晶

2022年3月25日(金) 13:30 〜 18:15 E203 (E203)

荒木努(立命館大)、菊池昭彦(上智大)、小田将人(和歌山大)

15:15 〜 15:30

[25p-E203-8] スパッタ法による高濃度縮退 n 型 AlGaN 薄膜の成長と評価

〇西川祐人¹、前田亮太¹、上野耕平¹、小林篤¹、藤岡洋¹ (1.東大生研)

キーワード：スパッタリング、窒化アルミニウムガリウム、ドーピング