2022年第69回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.5 デバイス/配線/集積化技術

[25p-E307-1~15] 13.5 デバイス/配線/集積化技術

2022年3月25日(金) 13:30 〜 17:30 E307 (E307)

百瀬 健(東大)、杉浦 修(千葉工大)

14:45 〜 15:00

[25p-E307-6] LSI多層配線単層バリア材料としてのCo-63at%Nb合金の可能性

〇山田 裕貴1,2、矢作 政隆1,2、小池 淳一1 (1.東北大、2.JX金属(株))

キーワード:半導体配線、拡散バリア、Co合金

LSIデバイスに広く用いられるCu配線は,層間絶縁膜との境界にCuの熱拡散抑制(バリア機能)と密着性向上(ライナー機能)を目的としたTa/TaNまたはCo/TaNの二重構造を必要とする.デバイスの微細化が進行すると,このような二重構造は配線の体積を圧迫するため,バリアとライナーの機能を併せ持つ単層バリア材料が求められている.単層バリア材料はCuの高速拡散経路となりうる粒界を持たないことが望ましい.当グループではこれまでCALPHAD法によりバリア材として有用なアモルファスCo合金を探索してきた.その中でCo–63at%Nb合金が高いバリア効果を有すると予測された.今回の発表では,Co–63at%Nb合金が実際に必要な特性を持つか実験で検証した結果を報告する.