[25p-P11-1~16] 13.7 化合物及びパワーデバイス・プロセス技術・評価

[25p-P11-16] 二流体スプレー洗浄時における静電気の防止技術

〇鈴木 洋陽¹、福岡 靖晃¹、池田 景一¹、武藤 颯汰¹、森 竜雄¹、一野 祐亮¹、清家 善之¹ (1.愛知工大)

キーワード：二流体スプレー洗浄、静電気障害