The 69th JSAP Spring Meeting 2022

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Oral presentation

15 Crystal Engineering » 15.7 Crystal characterization, impurities and crystal defects

[26p-E104-1~11] 15.7 Crystal characterization, impurities and crystal defects

Sat. Mar 26, 2022 1:30 PM - 4:30 PM E104 (E104)

Kazuhisa Torigoe(SUMCO), Takuo Sasaki(QST), Hiroyuki Tsubota(GlobalWafers Japan)

1:30 PM - 1:45 PM

[26p-E104-1] Effects of Hydrogen Treatment on Piezoresistance Coefficients of Ge

〇Kazunori Matsuda1, Masashi Yamamoto2, Michio Mikawa2, Shiro Nagaoka2, Kouji Tanigawa1, Takashi Kunimoto1, Kazuo Tsutsui3 (1.Tokushima Bunri Univ., 2.NIT Kagawa, 3.Tokyo Inst. Tech.)

Keywords:germanium, piezoresistance effects, hydrogen anneal

ベル研究所のSmithやMorin等が60年ほど前に調べたp型Si, Geのピエゾ抵抗係数はGeの<100>方向の値だけが負になっており, 未だに説明ができない問題である. よく知られている変形ポテンシャルのモデルでは引張歪に対して重いホールバンドが軽いホールバンドよりエネルギーが低くなるために重いホールの密度が増えて抵抗が増加するが,Geの<100>方向だげが逆に減少している.この異常な係数について詳しく調べるために.今回はノンドープGeを水素処理し,ピエゾ抵抗効果の温度依存性に対する影響を調べた.