17:15 〜 17:50 [16p-A302-7] 半導体リソグラフィの微細化、エッチング耐性の限界を打破する「プラスα」技術：誘導自己組織化(DSA)と逐次浸透合成(SIS) 〇浅川 鋼児1 (1.キオクシア)
