16:00 〜 16:15 [16p-A304-12] Cu3N薄膜及びCu2O薄膜のO2アニール処理による電気抵抗低減 〇(M1)伊勢 真矢1、金井 雄介1、石川 博康1,2 (1.芝浦工大、2.グリーンエレクトロニクス国際研究研究センター)