13:30 〜 15:30 [17p-PA04-9] Al2O3マスクを用いたプロセスによるSi3N4光導波路の作製 〇(M2)齋藤 直輝1、柴崎 純一2、難波 正和2、宮本 祐司2、三浦 雅人2、船橋 信彦2、秋山 泰伸1、青島 賢一2、平野 芳邦2 (1.東海大院工、2.NHK技研)