一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.4 レーザー装置・材料（旧3.5）
2023年3月15日(水) 14:00 〜 17:00 A305 (6号館)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
14:00 〜 14:15
〇Enhao Li1、Hiyori Uehara1,2、Shigeki Tokita3、Ryo Yasuhara1,2 (1.SOKENDAI、2.NIFS、3.Kyoto Univ.)
スケジュール
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14:15 〜 14:30
〇鈴木 杏奈1,2、Kalusniak Sascha3、田中 裕樹3、Ganschow Steffen3、Kränkel Christian3、戸倉川 正樹1,2 (1.電通大レーザー研、2.電通大脳医工研、3.IKZ)
スケジュール
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14:30 〜 14:45
〇三井 崚平1,2、鈴木 杏奈1,2、戸倉川 正樹1,2 (1.電通大レーザー研、2.電通大脳・医工研究センター)
スケジュール
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14:45 〜 15:00
〇高貫 広翔1,2、戸倉川 正樹1,2 (1.電通大レーザー研、2.電通大脳・医工研究センター)
スケジュール
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15:00 〜 15:15
〇Vincent Yahia1,2、Arvydas Kausas1,2、Takunori Taira2,1 (1.Inst. for Mol. Sci.、2.RIKEN SPring8)
スケジュール
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15:15 〜 15:30
〇Arvydas Kausas1,2、Takunori Taira2,1 (1.Inst. for Mol. Sc.、2.RIKEN)
スケジュール
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15:45 〜 16:00
〇佐藤 庸一1,2、平等 拓範1,2、武正 知久3 (1.理研、2.分子研、3.神島化学工業)
スケジュール
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16:00 〜 16:15
〇Rakesh Bhandari1、Shota Sekiguchi1、Tadashi Hajikano1、Yuichi Takushima1 (1.Optoquest Co.)
スケジュール
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16:15 〜 16:30
〇(P)Hwan Hong Lim1、Takunori Taira2,1 (1.IMS、2.RIKEN)
スケジュール
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16:30 〜 16:45
〇谷村 実紅1、鹿嶋 凌駆1、二俣 善紀1、戸田 裕之1、鈴木 将之1 (1.同志社大)
スケジュール
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16:45 〜 17:00
〇青山 将士1、鹿嶋 凌駆1、戸田 裕之1、鈴木 将之1 (1.同志社大学理工学部)
スケジュール
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