一般セッション(口頭講演)
6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス
13:00 〜 13:15
〇(M1)高田 瀬那1、吉松 公平1、組頭 広志1 (1.東北大多元研)
スケジュール
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13:15 〜 13:30
〇志賀 大亮1,2、程 详遴1、金 兌炫1、神田 龍彦1,2、長谷川 直人1、北村 未歩2、吉松 公平1、組頭 広志1,2 (1.東北大多元研、2.KEK物構研)
スケジュール
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13:30 〜 13:45
〇(D)張 レイ飛1、先崎 俊亮1、藤田 貴啓1、川﨑 雅司1,2 (1.東大院工、2.理研CEMS)
スケジュール
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13:45 〜 14:00
〇(D)高原 規行1,2、高橋 圭2、十倉 好紀1,2,3、川﨑 雅司1,2 (1.東大院工、2.理研 CEMS、3.東大東京カレッジ)
スケジュール
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14:00 〜 14:15
〇(D)Siyi Tang1、Md Shamim Sarker1、Kaijie Ma1、Hiroyasu Yamahara1、Munetoshi Seki1、Hitoshi Tabata1 (1.the University of Tokyo)
スケジュール
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14:30 〜 14:45
〇大野 瑞貴1、藤田 貴啓1、川﨑 雅司1,2 (1.東大工院、2.理研CEMS)
スケジュール
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14:45 〜 15:00
〇(M1)増竹 悠紀1、志賀 大亮1,2、神田 龍彦1、長谷川 直人1、早坂 亮太朗1、北村 未歩2、吉松 公平1、大野 瑞貴3、藤田 貴啓3、川崎 雅司3,4、組頭 広志1,2 (1.東北大多元研、2.KEK物構研、3.東大院工、4.理研CEMS)
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15:00 〜 15:15
〇大西 嘉祐1、藤田 貴啓1、川﨑 雅司1,2 (1.東大院工、2.理研CEMS)
スケジュール
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15:15 〜 15:30
〇(M2)南野 龍樹1、相馬 拓人1、大友 明1 (1.東工大物質理工)
スケジュール
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15:30 〜 15:45
〇和田 亜里斗1、神田 龍彦1、志賀 大亮1、増竹 悠紀1、早坂 亮太朗1、北村 未歩2、吉松 公平1、組頭 広志1,2 (1.東北大多元研、2.KEK物構研)
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15:45 〜 16:00
〇(B)早坂 亮太朗1、神田 龍彦1,2、長谷川 直人1、増竹 悠紀1、和田 亜里斗1、Nathawuth Wongwutcharanukoun1、北村 未歩2、志賀 大亮1,2、吉松 公平1、組頭 広志1,2 (1.東北大多元研、2.KEK物講研)
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