10:00 〜 10:15
〇谷口 誠治1、コスロービアン ハイク1、稲田 順史1、本越 伸二1、藤田 雅之1、則武 卓也2、岩清水 優2、西方 伸吾2、醍醐 浩之2、榊 直人3、月花 智博3、戎崎 俊一3 (1.レーザー総研、2.三菱重工業、3.理化学研究所)
一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.4 レーザー装置・材料(旧3.5)
10:00 〜 10:15
〇谷口 誠治1、コスロービアン ハイク1、稲田 順史1、本越 伸二1、藤田 雅之1、則武 卓也2、岩清水 優2、西方 伸吾2、醍醐 浩之2、榊 直人3、月花 智博3、戎崎 俊一3 (1.レーザー総研、2.三菱重工業、3.理化学研究所)
10:15 〜 10:30
〇野邑 寿仁亜1、廣澤 賢一1、柳澤 隆行2、大畠 伸夫1、今村 俊介3、境澤 大亮3、冨井 直弥3 (1.三菱電機 情報技術総合研究所、2.三菱電機 通信機製作所、3.国立研究開発法人 宇宙航空研究開発機構)
10:30 〜 10:45
〇篠崎 琢也1、川嶋 一裕2、鯉沼 秀臣1、和田 智之3 (1.エスシーティー、2.信光社、3.理研)
10:45 〜 11:00
〇佐藤 篤1、平間 圭悟1 (1.東北工大工)
11:00 〜 11:15
〇田代 勇太郎1、桑原 隆太1、長沢 海斗1、鄭 和翊1 (1.東海大理)
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