09:00 〜 09:15
〇小林 亮1、乙部 智仁2 (1.名工大工、2.量研機構)
一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.6 レーザープロセシング(旧3.7)
2023年3月17日(金) 09:00 〜 11:30 A405 (6号館)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
09:00 〜 09:15
〇小林 亮1、乙部 智仁2 (1.名工大工、2.量研機構)
09:15 〜 09:30
〇谷 水城1,2、乙部 智仁2、篠原 康1、石川 顕一1 (1.東大院工、2.量研関西)
09:30 〜 09:45
〇遠藤 翼1、谷 峻太郎1、櫻井 治之1、小林 洋平1 (1.東大物性研)
09:45 〜 10:00
〇Yuchun Wang1、Hiroyuki Wada1 (1.Tokyo Tech)
10:00 〜 10:15
〇升野 振一郎1、橋田 昌樹1,2、全 炳俊3、時田 茂樹1 (1.京大化研、2.東海大総科研、3.京大エネ研)
10:30 〜 10:45
〇岡崎 未来瑠1、橋田 昌樹2、岩森 暁1 (1.東海大工、2.総合科技研)
10:45 〜 11:00
伊東 佑真1、吉田 岳人2、青木 珠緖1、〇梅津 郁朗1 (1.甲南大理工、2.阿南高専)
11:00 〜 11:15
〇Haotian Yang1、Ryo Yasuhara1,2、Hiroyuki Noto1,2、Chihiro Suzuki1,2、Hiyori Uehara1,2 (1.SOKENDAI、2.NIFS)
11:15 〜 11:30
〇(B)森本 純至1,2、Shi Bai1、小幡 孝太郎1、宮地 悟代2、杉岡 幸次1 (1.理研 光量子、2.東京農工大)
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◆早期参加申込みをされた方
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◆後期参加申込みをされた方
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