一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.1 光学基礎・光学新領域（旧3.2「材料・機器光学」と統合）
2023年3月18日(土) 13:00 〜 16:00 A201 (6号館)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:00 〜 13:15
〇合田 啓真1、太田 一輝1、覚野 貴之1、四竈 泰一1、蓮尾 昌裕1 (1.京大院工)
スケジュール
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13:15 〜 13:30
〇藤原 英樹1、今井 悠大1 (1.北海学園大)
スケジュール
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13:30 〜 13:45
〇安達 良和1、Izzah Machfuudzoh1、杉本 泰2、藤井 稔2、三宮 工1 (1.東工大、2.神戸大)
スケジュール
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13:45 〜 14:00
〇(DC)中山 牧水1、長瀬 暉1、髙橋 廣守1、齊藤 雄太2、畑山 祥吾2、牧野 孝太郎2、山本 詠士1、斎木 敏治1 (1.慶大理工、2.産総研)
スケジュール
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14:00 〜 14:15
〇佐藤 守1、納谷 昌之1,2、三友 秀之3、居城 邦治3、斎木 敏治1 (1.慶大理工、2.納谷ラボ、3.北大電子研)
スケジュール
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14:15 〜 14:30
Po-Wei Yi1,2、Wei-Hsiang Chiu1、Shuichi Toyouchi1、Roger Bresoli-Obach1,3,4、Johan Hofkens3,5、Eri Chatani6、Yoichiroh Hosokawa2、Teruki Sugiyama1,2、〇(P)Hiroshi Masuhara1 (1.Nat'l Yang Ming Chiao Tung Univ., Taiwan、2.NAIST、3.KULeuven, Belgium、4.Univ. Ramon Llull, Spain、5.Max-Planck Inst., Germany、6.Kobe Univ.)
スケジュール
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14:45 〜 15:00
〇Pin Christophe1、Keiji Sasaki1 (1.RIES, Hokkaido Univ.)
スケジュール
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15:00 〜 15:15
〇Yoshua Albert Darmawan1、Takuma Goto1、Taiki Yanagishima2、Takao Fuji1、Tetsuhiro Kudo1 (1.Toyota Technological Inst.、2.Kyoto Univ.)
スケジュール
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15:15 〜 15:30
〇西村 和真1、増井 恭子1、細川 千絵1 (1.阪公大院理)
スケジュール
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15:30 〜 15:45
〇山西 絢介1、Ahn Hyo-yong1、岡本 裕巳1 (1.分子研)
スケジュール
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15:45 〜 16:00
〇荒張 秀樹1、小西 創太2、秋田 成司2、石原 一1 (1.阪大院基礎工、2.阪公大院工)
スケジュール
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