一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.6 レーザープロセシング（旧3.7）
2023年3月18日(土) 13:00 〜 16:00 A405 (6号館)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:00 〜 13:15
〇服部 雄真1、宮越 陸人2、伊藤 茜1,2、尾上 弘晃1,2、寺川 光洋1,2 (1.慶大理工、2.慶大院理工)
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13:15 〜 13:30
〇柏川 健1、尾上 弘晃1,2、寺川 光洋1,2 (1.慶大理工、2.慶大院理工)
スケジュール
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13:30 〜 13:45
〇阿部 航大1、山田 壮平1、花田 修賢1 (1.弘前大理工)
スケジュール
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13:45 〜 14:00
〇(M1)YUTA NAKAMURA1、SATOSHI HASEGAWA1、YOSHIO HAYASAKI1 (1.Utsunomiya Univ.)
スケジュール
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14:00 〜 14:15
〇早崎 芳夫1、三浦 拓真1、熊谷 幸汰1 (1.宇都宮大オプティクス)
スケジュール
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14:15 〜 14:30
清水 大輔1、〇早崎 芳夫1 (1.宇都宮大オプティクス)
スケジュール
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14:45 〜 15:00
〇西山 宏昭1、沼田 洸1、青山 昌央1 (1.山形大院理工)
スケジュール
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15:00 〜 15:15
〇西山 宏昭1、松本 春加1、大森 隆史1 (1.山形大院理工)
スケジュール
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15:15 〜 15:30
〇高田 英行1、吉富 大1、奈良崎 愛子1 (1.産総研)
スケジュール
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15:30 〜 15:45
石川 和香子1、〇佐藤 俊一1 (1.東北大多元研)
スケジュール
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15:45 〜 16:00
〇寺澤 英知1,2、佐藤 大輔2,3、丸 征那1,2、澁谷 達則3、盛合 靖章2,4、小川 博嗣2,3、田中 真人2,3、坂上 和之5、鷲尾 方一1、小林 洋平2,4、黒田 隆之助2,3 (1.早大理工総研、2.産総研オペランド計測OIL、3.産総研分析計測標準、4.東大物性研、5.東大院工)
スケジュール
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