[15a-A408-1~10] 6.2 Carbon-based thin films

[15a-A408-1] Fabrication of Ultrananocrystalline Diamond Electrodes by Coaxial Arc Plasma Deposition and Resistance to Electrochemical Corrosion

〇Hiroshi Naragino¹, Satoki Nagano¹, Hiroki Hashiguchi¹, Tsuyoshi Yoshitake¹ (1.Interdis. Grad. Sch. Eng. Sci., Kyushu Univ.)

Keywords:Ultrananocrystalline diamond thin film, Coaxial arc plasma deposition, Electrochemical property

本研究では，同軸型アークプラズマ成膜法によりTi基板上に導電性超ナノ微結晶ダイヤモンド薄膜を成膜した．薄膜の基板からの剥離を抑制するために中間層の挿入および室温成膜を行った．作製した薄膜の電気化学特性および化学結合状態に加え，酸性フッ化物水溶液中における耐腐食性を調査した．