[15a-D209-1~5] 7.3 Micro/Nano patterning and fabrication

[15a-D209-1] Fabrication of silicon nanodisk array by UV nanoimprint lithograpy

〇Naoki Takano¹, Hiromasa Niinomi¹, Iori Morita², Kazuhiro Gotoh³, Tomoya Oshikiri¹, Masaru Nakagawa¹ (1.IMRAM, Tohoku Univ., 2.RIEC, Tohoku Univ., 3.Grad. Sch. Eng., Nagoya Univ.)

Keywords:UV nanoimprint lithography, nanostructure array, reactive ion etching

素子サイズのシリコンナノディスク配列体を複製する方法にUVナノインプリントリソグラフィの応用が検討されている。光硬化性液体の成形にはポリジメチルシロキサン(PDMS)製のモールドが多用される。PDMSモールドは塵埃耐性が高い一方で、成形時の押圧によるパターン形状の寸法精度の問題が指摘されている。本研究では寸法精度の高い合成石英モールドを用いたシリコンナノディスク配列体の作製方法を検討した。