2023年第70回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[15a-D209-1~5] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2023年3月15日(水) 10:30 〜 11:45 D209 (11号館)

山本 治朗(日立)

11:00 〜 11:15

[15a-D209-3] ナノレオロジープリンティングによるチタニアのサブミクロンパターン作製

廣瀬 大亮1、山田 大貴2、尾原 幸治2、Tseng Jochi2、高村 禅1 (1.北陸先端大、2.高輝度光科学研)

キーワード:ナノレオロジープリンティング、液体プロセス、チタニア

ナノレオロジープリンティング(n-RP)は熱ナノインプリントによって、酸化物ゲルにパターンを直接転写するプロセスである。これまでチタニアの精度の良いパターニングは達成できていなかった。本研究ではプリンタブルチタニアゲルを創製し、チタニアのサブミクロンサイズのパターンを、n-RPによって作製した。高エネルギーX線回折、熱分析及びFT-IRにより、チタニアゲルの構造解析を行い、どのような要因がプリンタブル性に重要なるかを調べた。