[15a-PA01-1~56] 17 ナノカーボン（ポスター）

[15a-PA01-33] レジストフリーグラフェン転写方法の開発

〇阿曽 広之¹、伏見 直樹¹、須田 章一¹、林 賢二郎¹、近藤 大雄¹、佐藤 信太郎¹ (1.富士通)

キーワード：グラフェン、転写、レジストフリー

CVD法により合成したグラフェンをデバイス化する際、レジストとして知られているPMMAをグラフェンの保護膜として塗布することが多い。一方で、転写したグラフェン上に PMMAが除去できずに残渣として残り、グラフェンの電気特性に悪影響を及ぼすことが知られている。本発表では、レジストの影響を最小限に抑えるため、多層グラフェンのレジストフリー転写方法の開発を行ったので詳細を報告する。