[15a-PA01-1~56] 17 ナノカーボン（ポスター）

[15a-PA01-56] 二次元WSe₂の自己制限酸化膜を利用したメモリの作製

〇(B)寒川 雄斗¹、稲田 貢¹、上野 啓司²、山本 真人¹ (1.関西大システム理工、2.埼玉大院工)

キーワード：抵抗変化メモリ、2セレン化タングステン