[15p-A408-1~14] 6.2 Carbon-based thin films

[15p-A408-6] Deposition of amorphous carbon nitride thin films by pressure-gradient RF magnetron sputtering

〇Masami Aono¹, Masami Terauchi², Kyoji Morita³, Tasuku Inoue³, Kazuhiro Kanda³ (1.Kagoshima Univ., 2.IMRAM Tohoku Univ., 3.LASTI, Univ. Hyogo)

Keywords:amorphous, carbon nitride, spectroscopy

本研究では、窒素含有量とsp³C-N結合量の両方を同時に向上させることを目的に、スパッタターゲット近傍の窒素ガス圧を高めた、圧力勾配式反応性高周波マグネトロンスパッタ法を用いて、アモルファス窒化炭素薄膜の作製を試み、その化学結合状態をX線光電子分光法（XPS）、軟X線発光分光法（SXES）、吸収端近傍X線吸収微細構造分光法（NEXAFS）を用いて解析した。