[15p-A408-1~14] 6.2 カーボン系薄膜

[15p-A408-6] 圧力勾配式高周波マグネトロンスパッタ法を用いたアモルファス窒化炭素薄膜の作製

〇青野 祐美¹、寺内 正己²、森田 恭司³、井上 祐³、神田 一浩³ (1.鹿児島大工、2.東北大多元研、3.兵県大高度研)

キーワード：アモルファス、窒化炭素、分光法

本研究では、窒素含有量とsp³C-N結合量の両方を同時に向上させることを目的に、スパッタターゲット近傍の窒素ガス圧を高めた、圧力勾配式反応性高周波マグネトロンスパッタ法を用いて、アモルファス窒化炭素薄膜の作製を試み、その化学結合状態をX線光電子分光法（XPS）、軟X線発光分光法（SXES）、吸収端近傍X線吸収微細構造分光法（NEXAFS）を用いて解析した。