[15p-A501-1~7] 3.10 フォトニック構造・現象（旧3.11）

[15p-A501-3] 転写プリントSiNマスクを活用したダイヤモンド中空構造の作製

〇高田 晃佑¹、勝見 亮太¹、飛沢 健¹、鳴瀬 駿¹、河合 健太¹、佐藤 大地¹、八井 崇¹ (1.豊橋技科大)

キーワード：ダイヤモンド、NVセンタ、転写プリント

光子を介した大規模な量子通信や量子情報処理に向けて、単結晶ダイヤモンド中における窒素－空孔（NV）センタが非常に注目を集めている。量子ネットワークの大規模化に向けて、ダイヤモンドの微細構造化を通じた NV センタの集積化が重要である。ところが、ダイヤモンド、とりわけ単結晶ダイヤモンドにおける微細加工は技術的に難しい。そこで我々は、転写プリント法によるマスク集積を経た新しいダイヤモンド微細加工法を提案している。今回、斜めエッチングを同手法と組み合わせ、単結晶ダイヤモンドにおける中空微細構造の作製に成功したので報告する。本技術の有効性として、簡易的かつ高精度なマスク集積とその並列化・自動化が期待される。