[15p-A502-1~18] 3.14 シリコンフォトニクス・集積フォトニクス（旧3.15）

△ [15p-A502-18] 薄膜Ce:YIG/SGGGのSi導波路上へのµ-トランスファープリンティングを用いた導波路型光アイソレータの製作

〇(DC)峰村 大輝¹、高 磊²、須藤 吉克²、村井 俊哉²、山田 浩治²、庄司 雄哉¹ (1.東工大、2.産総研)

キーワード：トランスファープリンティング、磁気光学デバイス、アイソレータ

磁気光学デバイスではウエハボンディングが主流だが、この方法では厚く大きいSGGGが回路上に残ってしまい、小型化・高密度集積ができないという大きな問題がある。本研究ではCe:YIG-on-isulator基板から薄膜化させた数百µmのCe:YIG/SGGGシールを作製し、µ-トランスファープリンティング法を用いてSi導波路上に貼り付けることで、高密度集積が可能な導波路型光アイソレータを提案する。