[15p-B401-1~18] 15.4 III-V-group nitride crystals

△ [15p-B401-12] Effect of thermal oxidation process on optical properties of MicroLED

〇(B)Gota Shinohara¹, Kakeru Oya¹, Atsushi Nishikawa², Alexander Loesing², Hiroto Sekiguchi¹ (1.Toyohashi Tech, 2.ALLOS)

Keywords:MicroLED, thermal oxidation

我々は光刺激と薬液投与が同時に可能なマイクロLED／流路神経プローブの開発を行っており，本研究では熱酸化法を用いた流路内へのSiO₂保護層形成を目的とした．酸化プロセス前にKOH溶液による異方性Siエッチングを行うことで流路側面を平坦化した．次に熱酸化温度がLED特性に与える影響を調べ，750 ℃では長時間の熱処理でも光出力の低下がないことを確認した．これらを踏まえ，LED特性に影響のない流路内への均一なSiO₂の形成を実現した．