[15p-PA03-1~18] 12.1 作製・構造制御

[15p-PA03-1] ジナフトチエノチオフェン（DNTT）薄膜の成長過程と構造評価

〇廣芝 伸哉^1,2、河野 裕太^1,2、オンコ リチャード^1,2、小池 一歩^1,2、松原 亮介³、久保野 敦史³、小島 広孝⁴ (1.大阪工大工、2.大阪工大ナノ材研、3.静岡大工、4.舞鶴高専)

キーワード：薄膜成長、斜入射X線回折（GIXD）、MDシミュレーション

低速蒸着を用いたDNTT薄膜の成長について調査した。薄膜成長初期をAFM、XRD、GIXDを用いて実験的に解析した。また、MDシミュレーションを用いてアモルファスSiO2表面でのDNTTの薄膜形成挙動を解析した。これらの結果を系統的に議論を行う。