[15p-PA03-1~18] 12.1 作製・構造制御

[15p-PA03-5] ナフタレンジイミド誘導体蒸着膜の構造と物性

〇(M1)倉富 駿¹、臼井 博明¹、帯刀 陽子¹、臼井 聡² (1.東京農工大、2.新潟大)

キーワード：真空蒸着、薄膜配向、薄膜物性

ナフタレンのジスチルアミンN,N’-bis(p-vinylphenyl)naphthalene diimide (PVP-NDI)及びジスチリルアミンN,N’-bis(p-vinylbenzyl)naphthalene diimide(PVB-NDI)それぞれを真空蒸着法で製膜した。(PVP-NDI)はPVB-NDIに比較してIR-RAS測定でイミドC-N伸縮が明瞭に現れ、X線回折で低角度に明瞭な回折を示した。さらにPVP-NDIはPVB-NDIに比較して約200倍の導電率を示した。これは前者が後者に比較して剛直な構造を持ち、配向しやすいためだと考えられる。