2023年第70回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

12 有機分子・バイオエレクトロニクス » 12.1 作製・構造制御

[15p-PA03-1~18] 12.1 作製・構造制御

2023年3月15日(水) 16:00 〜 18:00 PA03 (ポスター)

16:00 〜 18:00

[15p-PA03-6] p-ヘキサデシルスチレンの電子アシスト蒸着重合

佐々木 青葉1、北澤 悠人2、臼井 聡2、臼井 博明1 (1.東京農工大工、2.新潟大理)

キーワード:蒸着重合

電子アシスト蒸着法を用いアルキルスチレンC16Styの蒸着膜を形成した。通常の真空蒸着ではC16Styモノマーが多結晶膜を形成したが、電子照射によるアシストを行うことにより重合膜が形成され、膜が非晶質化した。温和な電子照射条件で作製した膜の表面エネルギーは27.0 mJ/m2であり、本手法が低エネルギー表面形成に有用と考えられる。