[15p-PB03-1~15] 8 Plasma Electronics (Poster)

[15p-PB03-6] Deposition of diamond-like carbon film by high power pulsed magnetron sputtering using unipolar double pulses

〇Takayuki Ohta¹, Hiro Kunieda¹, Akinori Oda², Hiroyuki Kousaka³ (1.Meijo Univ., 2.Chiba Inst. Technol., 3.Gifu Univ.)

Keywords:sputtering, diamond-like carbon

ユニポーラダブルパルス（2 つの負のパルス高電圧を印加）をターゲットに印加する大電力パルススパッタリングによる DLC 成膜を行い、質量分析で計測した基板入射イオンの挙動と DLC 膜質の関係を明らかにする。