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[15p-PB06-11] Infrared optical characteristics of seamless nanopatterns by stencil lithography
Keywords:stencil lithography, seamless nanopatterns, Infrared light
本研究は、赤外光領域におけるシームレスナノパターンの光学評価を目的とする。シームレスナノパターンは、ステンシルリソグラフィー法を用い、これに回転と勾配を組み合わせることで、ディスクからリング、さらにホールまでのシームレスな連続的ナノパターンを作製した。また、近赤外光領域において、先の構造変化に伴う共鳴波長のシフトを観測した。