[15p-PB06-1~23] 3.11 ナノ領域光科学･近接場光学（旧3.12）

[15p-PB06-11] ステンシルリソグラフィーによるシームレスナノパターンの赤外光特性

〇山口 堅三¹、渡邉 勇起²、岡本 敏弘¹、原口 雅宣¹ (1.徳島大pLED、2.徳島大院)

キーワード：ステンシルリソグラフィー、シームレスナノパターン、赤外光

本研究は、赤外光領域におけるシームレスナノパターンの光学評価を目的とする。シームレスナノパターンは、ステンシルリソグラフィー法を用い、これに回転と勾配を組み合わせることで、ディスクからリング、さらにホールまでのシームレスな連続的ナノパターンを作製した。また、近赤外光領域において、先の構造変化に伴う共鳴波長のシフトを観測した。