2023年第70回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

16 非晶質・微結晶 » 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

[16a-D505-1~11] 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

2023年3月16日(木) 09:00 〜 12:00 D505 (11号館)

寺門 信明(東北大)、本間 剛(長岡技科大)、岸 哲生(東工大)

09:45 〜 10:00

[16a-D505-4] 縮退ZnO:Ga薄膜の電子-正孔プラズマによる低閾値室温誘導放出発光

田代 愛佳1、安達 裕2、内野 隆司1 (1.神戸大理、2.物材機構)

キーワード:縮退半導体、酸化亜鉛、誘導放出

Mott密度のキャリア濃度を有するn型ドープ半導体では,フェルミ準位が伝導帯中の深い位置に存在し,多体効果に由来した特異な光学過程が予測される。そこで本研究では,高品位 Gaドープ縮退ZnO薄膜を作製し光学測定を行った。光吸収測定の結果,室温で吸収端付近に吸収増大が観測され,その強度は温度低下に伴い増大することが分かった。さらにPL測定より,非ドープZnOよりも低閾値でEHP由来の誘導放出発光を観測した。