[16a-D511-1~10] 15.5 IV族結晶，IV-IV族混晶

[16a-D511-10] SiO₂上への極薄ニッケルシリサイド膜形成
―Si/Ni/Si初期構造における膜厚依存性―

〇木村 圭佑¹、田岡 紀之¹、西村 駿介¹、大田 晃生¹、牧原 克典¹、宮﨑 誠一¹ (1.名大院工)

キーワード：超薄膜、XPS、ニッケルシリサイド