PDF ダウンロード スケジュール 11 いいね! 0 コメント (0) 10:15 〜 10:30 [16a-D511-6] 固相成長法による Si(001)基板上の伸長歪み Ge1−xSnx薄膜の形成 〇平出 達磨1、大岩 樹1、柴山 茂久1、坂下 満男1、中塚 理1,2、黒澤 昌志1 (1.名大院工、2.名大未来研) キーワード:ゲルマニウムスズ、GeSn、固相成長