1:30 PM - 3:30 PM
[16p-PA03-2] Formation of β-FeSi2 NDs by SiH4-Exposure to Fe-NDs
Keywords:Iron silicide, nanodot, b-FeSi2
これまでに、SiO2熱酸化膜上にリモートH2プラズマ支援により高密度・一括形成したFeナノドットに基板温度400˚CでSiH4照射を行った場合、Feシリサイドナノドットが形成でき、0.79eV付近に室温PLが認められることを報告した。本研究では、SiH4照射時におけるガス圧力および照射時間がFeナノドットのシリサイド化反応に及ぼす影響を評価した。結果としてSiH4照射によりβ-FeSi2相形成後、表面にSiが堆積することで発光強度が低減することがわかった。