[16p-PA09-1~18] 6.4 薄膜新材料

[16p-PA09-18] ウェットプロセスによる金属酸化物超薄膜の開発

〇加藤 隆誠¹、村田 貴朗¹、弓削 哲治¹ (1.三菱ケミカル)

キーワード：金属酸化物、超薄膜、光触媒

金属酸化物は物理的、化学的に多様な性質を有し、幅広い分野で利用されている。近年、半導体分野をはじめとした電子デバイスへの応用も盛んに研究されており、金属酸化物層の薄膜化が求められている。超薄膜を作製する場合、一般的にPVD法等のドライプロセスが用いられる。本研究では、金属酸化物分散液を用いた、簡便なウェットプロセスでの金属酸化物超薄膜の開発を行った。