2023年第70回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

8 プラズマエレクトロニクス » 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[17a-A205-1~9] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

2023年3月17日(金) 09:00 〜 11:30 A205 (6号館)

荻野 明久(静大)

11:00 〜 11:15

[17a-A205-8] ナノネットワーク構造解析に基づく微細トレンチ内の窒化ホウ素膜特性予測

濱野 誉1,5、松田 崇行1、朝本 雄也1,5、野間 正男2、長谷川 繁彦3、山下 満4、占部 継一郎1、江利口 浩二1 (1.京大院工、2.神港精機、3.阪大産研、4.兵庫県立工技センター、5.学振特別研究員DC)

キーワード:窒化ホウ素膜、ナノネットワーク構造、微細トレンチ構造

窒化ホウ素(BN)の薄膜堆積では,照射イオンエネルギーに依存して膜中のナノネットワーク構造が変化する.工学的応用で重要となる3次元構造体への成膜では,構造体中の面方向とイオン入射方向の関係により各面上での薄膜特性が変化すると予測されるが,その評価は難しい.本研究ではナノネットワーク構造と薄膜特性の相関に基づき,微細トレンチ構造を有する基板上に堆積したBN膜の局所領域における薄膜特性を予測した.