2023年第70回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[17a-A205-1~9] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

2023年3月17日(金) 09:00 〜 11:30 A205 (6号館)

荻野 明久(静大)

11:15 〜 11:30

[17a-A205-9] コイル状陽極を用いた直流真空アーク蒸着によるTiN膜の作製

鬼頭 純平1、税木 善則1、本間 健斗1、渡辺 聖也1、坂東 隆宏1、針谷 達1、滝川 浩史1、儀間 弘樹2、杉田 博昭2 (1.豊橋技科大、2.オーエスジー)

キーワード:フィルタードアーク蒸着、窒化チタン膜、真空アーク蒸着

本研究では,直流アークを利用して磁界を発生させるコイル状陽極を設計し,真空アーク蒸着装置で採用した。その性能は,磁界を印加した場合としない場合のTiN膜の形成によって評価された。コイル状陽極により磁界を印加することで,成膜速度が向上し,相対的なドロップレット数の減少が予想された。さらに,コイル状陽極を用いることで膜の硬度が向上し,44 GPaの非常に硬い膜が得られた。