2023年第70回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.7 化合物及びパワーデバイス・プロセス技術・評価

[17a-A301-1~9] 13.7 化合物及びパワーデバイス・プロセス技術・評価

2023年3月17日(金) 09:00 〜 11:30 A301 (6号館)

佐藤 威友(北大)

09:15 〜 09:30

[17a-A301-2] 1700V耐圧β型酸化ガリウムショットキーバリアダイオード

有馬 潤1、藤田 実1、川崎 克己1、平林 潤1 (1.TDK)

キーワード:半導体、酸化ガリウム、Ga2O3

β-Ga2O3は、4.5 eV程度の広いバンドギャップを有し、絶縁破壊電界も高いことから、パワーデバイスへの応用が期待される材料である。我々は、トレンチMOS構造を設けたGa2O3 SBD (β-Ga2O3 MOS-SBD)の開発を行なっている[1]。今回、β-Ga2O3 MOS-SBDの終端構造の検討を行い、耐圧1700V以上を得たので報告する。