2023年第70回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[17a-D419-1~12] 6.4 薄膜新材料

2023年3月17日(金) 09:00 〜 12:00 D419 (11号館)

吉本 護(東工大)、山原 弘靖(東大)

09:45 〜 10:00

[17a-D419-4] 複合成膜手法によるTiO2薄膜の低屈折率化の検討

〇(M1)遠藤 孝祐1、室谷 裕志1、松平 学幸2 (1.東海大院工、2.(株)シンクロン)

キーワード:光学薄膜、酸化チタン

本研究室ではEB蒸着法とDCパルススパッタリング法を同一真空容器内に設置して同時に作動させる複合成膜手法を開発した。先行研究において本手法でSiO2, MgF2, Al2O3光学薄膜の低屈折率化に成功しているが、結晶性を持つ薄膜の方が低屈折率化がしにくい可能性が示唆された。非晶質膜にも結晶質膜にもなりうるTiO2薄膜を低屈折率化することで結晶性と低屈折率化の関係を検討したい。本研究ではTiO2膜の低屈折率化について検討した。