[17a-D419-1~12] 6.4 Thin films and New materials

△ [17a-D419-6] Low Refractive Index SiO₂ Optical Thin Film Deposited by Sputtering and Electron Beam Evaporation part 2

〇(D)Naoya Tajima¹, Hiroshi Murotani¹, Takayuki Matsudaira² (1.Tokai Univ., 2.SHINCRON CO.LTD.)

Keywords:optical thin film, SiO2, low refractive index

光学薄膜の屈折率を任意の値に制御することで、光学特性を向上することができる。本研究室では、電子ビーム蒸着法とスパッタリング法を同一真空容器内で稼働可能な複合成膜手法を開発し、SiO₂の低屈折率化に成功している。本研究では、複合成膜による屈折率制御を目的とし、成膜条件を変化させた時の屈折率および膜構造に与える影響を検討した．複合成膜ではスパッタリング出力やスパッタ含有量によって、膜の屈折率の低下やクラックの抑制をすることができる。