2023年第70回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[17a-D419-1~12] 6.4 薄膜新材料

2023年3月17日(金) 09:00 〜 12:00 D419 (11号館)

吉本 護(東工大)、山原 弘靖(東大)

10:45 〜 11:00

[17a-D419-8] MBE法でLSAT基板上に成膜したβ相MoO3薄膜のプロトネーション効果

仲井 啓悟1、宮本 武1、リチャード オンコ1、広藤 裕一1、廣芝 伸哉1、小池 一歩1 (1.大阪工大 ナノ材研)

キーワード:MoO3、MBE、プロトネーション

これまで我々は,MBE法で格子整合系LSAT(100)基板にコヒーレント成長させた5 nmのWO3薄膜をバッファ層とすることで,ミスオリエンテーションを含まない準安定β相MoO3(100)薄膜がエピタキシャル成長することを報告している.今回,膜厚40 nmのβ-MoO3(100)薄膜にプロトンを注入した結果,可視光から近赤外領域で透過率が大きく減少し,濃い青色に呈色した.これに伴い,Moの価数が減少し、さらに成長方向に格子が6%伸びることを明らかにした.