[17p-A201-1~15] 3.1 光学基礎・光学新領域（旧3.2「材料・機器光学」と統合）

[17p-A201-10] 高分子ネットワーク液晶で作製した光拡散偏光子 -形成機構の解明と光学性能の向上-

〇垣内田 洋¹、荻原 昭文² (1.産総研、2.神戸高専)

キーワード：高分子ネットワーク液晶、光拡散、偏光消光比

高分子ネットワーク液晶(PNLC)の光学異方性の形成機構と微細構造を調べ、作製条件を探索した結果、偏光消光比>10の光拡散型の偏光子を実現した。本素子は、光スペックルパターンを投射露光することで光重合誘起相分離(PPIPS)により自己組織化的に形成され、光学異方性はPPIPS過程での液晶の配向づけで発現している。今回、PPIPSがある程度進んだ後に液晶配向が始まること、光拡散性や偏光性はウレタン系アクリルが重要ということがわかってきた。