The 70th JSAP Spring Meeting 2023

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Oral presentation

16 Amorphous and Microcrystalline Materials » 16.3 Bulk, thin-film and other silicon-based solar cells

[17p-A403-1~17] 16.3 Bulk, thin-film and other silicon-based solar cells

Fri. Mar 17, 2023 1:00 PM - 5:45 PM A403 (Building No. 6)

Yasuaki Ishikawa(Aoyama Gakuin Univ.), Keisuke Ohdaira(JAIST), Chisato Niikura(NIMS)

4:30 PM - 4:45 PM

[17p-A403-13] Improvement of passivation performance of silicon nanocrystal/silicon oxide compound layer by 2-step hydrogen plasma treatment

Masashi Matsumi1, Kazuhiro Gotoh1, Markus Wilde2, Yasuyoshi Kurokawa1, Katsuyuki Fukutani2, Noritaka Usami1 (1.Graduate School of Eng., Nagoya Univ., 2.Institute of Industrial Sci., The Univ. of Tokyo)

Keywords:hydrogen plasma treatment, poly-crystalline silicon on oxide junction, passivation

我々はこれまでに、シリコンナノ結晶/酸化シリコン複合膜に対し、パッシベーション性能の向上を目的に水素プラズマ処理を行なってきた。結果、複合膜には水素が含まれたが、その上に堆積した多結晶シリコンには水素が含まれず、そこに性能向上の余地があった。そこで今回は、高温で複合膜を水素化し、低温で多結晶シリコンを水素化する2段階水素プラズマ処理を着想し、その有用性を検討した。