[17p-A403-1~17] 16.3 Bulk, thin-film and other silicon-based solar cells

△ [17p-A403-13] Improvement of passivation performance of silicon nanocrystal/silicon oxide compound layer by 2-step hydrogen plasma treatment

〇Masashi Matsumi¹, Kazuhiro Gotoh¹, Markus Wilde², Yasuyoshi Kurokawa¹, Katsuyuki Fukutani², Noritaka Usami¹ (1.Graduate School of Eng., Nagoya Univ., 2.Institute of Industrial Sci., The Univ. of Tokyo)

Keywords:hydrogen plasma treatment, poly-crystalline silicon on oxide junction, passivation

我々はこれまでに、シリコンナノ結晶/酸化シリコン複合膜に対し、パッシベーション性能の向上を目的に水素プラズマ処理を行なってきた。結果、複合膜には水素が含まれたが、その上に堆積した多結晶シリコンには水素が含まれず、そこに性能向上の余地があった。そこで今回は、高温で複合膜を水素化し、低温で多結晶シリコンを水素化する2段階水素プラズマ処理を着想し、その有用性を検討した。