[17p-D419-1~15] 6.4 薄膜新材料

[17p-D419-8] PCSD法を用いる透明導電膜配線のリマニュファクチャリング

〇中島 智彦¹、野本 淳一¹、北中 佑樹¹、山口 巖¹ (1.産総研)

キーワード：透明導電膜、リマニュファクチャリング、レーザープロセス

PCSD(Photo-assisted Chemical Solution Deposition)法は樹脂基材上へのフレキシブル酸化物製膜など低温、高効率製膜法として研究が進められる。本研究ではITO透明導電膜の塗布から結晶化までを3分以内の短時間で完了させ、実製造プロセスで課題となるITO配線形成時の欠損発生による多大な製造ロスを解消する”リマニュファクチャリング”に利用可能であることを実証した。