2023年第70回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.1 光学基礎・光学新領域(旧3.2「材料・機器光学」と統合)

[18a-A201-1~8] 3.1 光学基礎・光学新領域(旧3.2「材料・機器光学」と統合)

2023年3月18日(土) 09:30 〜 11:30 A201 (6号館)

熊本 康昭(阪大)

10:30 〜 10:45

[18a-A201-5] 光渦レーザー誘起前方転写法による高精細金ナノインクプリンティング

〇(B)甲斐 清香1、川口 晴生1、高橋 幹太1、魏 榕1、山根 啓作2、柚山 健一3、川野 聡恭4、森田 隆二2、青木 伸之1,5、宮本 克彦1,5、尾松 孝茂1,5 (1.千葉大融合理工、2.北大工、3.大阪公立大、4.阪大基礎工、5.千葉大分子キラリティー)

キーワード:光渦、プリンタブルエレクトロニクス、レーザー誘起前方転写

光渦レーザー誘起前方転写法(OV-LIFT)は、多様な材料を高精細にパターニングできる技術として注目されている。金ナノ微粒子が高濃度に添加された金ナノインクをドナーとしてOV-LIFTに適用すると、優れた真円性と均質性、高い二次元着弾精度を示した。この結果は光渦の角運動量によるものと考えられる。また、高NA集光光学系の適用により、最小ドット径は 8 µmであった。これらの結果は、プリンタブルエレクトロニクスにおけるOV-LIFTの有効性を示す。