[18a-A408-1~9] 8.3 プラズマナノテクノロジー

[18a-A408-6] プラズモニックプラズマプロセス由来のシリコン上絶縁膜の断面観察

〇北嶋 武¹、渡邉 一叶¹、中野 俊樹¹ (1.防大電気)

キーワード：プラズマ、プラズモン、絶縁膜

金ナノ粒子から供給されるホットエレクトロンをプラズマ表面反応へ応用したプラズモニックプラズマプロセスにより、良質な絶縁膜が室温形成できる。今回絶縁膜の面内均一性と金ナノ粒子周囲での形成状況を断面TEMにより評価した。結果、100nm以上の面内範囲で±0.2nm以下の膜厚均一性が確認できた。また、直径8.4nmの金ナノ粒子の下に膜厚ゆらぎのない膜厚2.9nmのSiON膜が形成されていることが確認できた。