2023年第70回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[18p-B401-1~13] 15.4 III-V族窒化物結晶

2023年3月18日(土) 13:00 〜 16:30 B401 (2号館)

岩谷 素顕(名城大)、市川 修平(阪大)

16:00 〜 16:15

[18p-B401-12] 分極ドープ組成傾斜AlGaN 構造形成による3次元電子スラブの生成

廣木 正伸1、谷保 芳孝1、熊倉 一英1 (1.NTT物性研)

キーワード:AlN

組成傾斜AlGaN層を形成すると、高濃度の3次元電子スラブが形成される。しかし、AlNバッファ層上に形成した場合、界面に2次元ホールガスが誘起される懸念がある。今回、Al組成が減少する組成傾斜AlGaN下地層を持つバンドオフセットのない構造を提案を作製した。電気的特性を評価したところ、電子移動度は390 cm2/Vs、電子濃度は5.4×1017 cm-3と高濃度の3次元電子スラブが形成されることを確認した。